染雾65nm是用来解决
半导体工业的最主要特征是工艺不断进步,平均每隔几年就要升级一次,带动功耗和成本不断下降,性能不断提升.从180nm到130nm,再到90nm、65nm和45nm,这些略显枯燥的数字使我们的生活正在加速进入充斥各种电子器件的数字时代.
作 者： Xilinx Geomatrix 作者单位： 刊 名： 电子与电脑 英文刊名： COMPOTECH CHINA 年，卷(期)： 2007""(12) 分类号： 关键词：65nm是用来解决
半导体工业的最主要特征是工艺不断进步,平均每隔几年就要升级一次,带动功耗和成本不断下降,性能不断提升.从180nm到130nm,再到90nm、65nm和45nm,这些略显枯燥的数字使我们的生活正在加速进入充斥各种电子器件的数字时代.
作 者： Xilinx Geomatrix 作者单位： 刊 名： 电子与电脑 英文刊名： COMPOTECH CHINA 年，卷(期)： 2007""(12) 分类号： 关键词：